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四噴頭超聲波勻膠機是一款用于在基片上涂覆光刻膠或其他功能性液體的gaoduan、高精度的半導體及微納加工設備。它代表了勻膠技術的zui新發展方向，尤其適用于復雜結構和非平面襯底的涂膠
傳統勻膠機通常只有一個固定的滴膠頭或靜態噴頭，通過中心滴膠或靜態噴灑的方式將光刻膠覆蓋在基片上，然后通過高速旋轉產生的離心力使膠體鋪展均勻。
四噴頭超聲波勻膠機則是一種新型的設計。它集成了以下核心部件：
四個獨立的超聲波壓電噴頭：這是其名稱的由來。每個噴頭都是一個獨立的、精密的液體分配單元。
高精度機械臂：這四個噴頭被安裝在一個多自由度的機械臂上，可以jingque控制噴頭在基片上方進行復雜的三維運動。
超聲波霧化技術：利用高頻超聲波振動將液體“撕裂”成極其微小且均勻的霧狀液滴（通常直徑在微米級別），然后通過載氣將其噴射出去。
協同控制系統：一個復雜的軟件系統，可以同步控制每個噴頭的開關、流量、以及機械臂的運動軌跡。
一．工作原理簡述：
它不是簡單地將膠水滴在中心，而是像一臺“3D打印機”或“噴墨打印機”一樣，通過程序控制四個噴頭，按照預設的路徑在基片表面進行掃描式噴涂。每個噴頭可以獨立工作，也可以協同作業，從而實現qian所未有的涂覆均勻性和靈活性。
二．核心優勢：
與傳統勻膠機相比，四噴頭超聲波勻膠機具有壓倒性的優勢：
1.極高的均勻性：
2.zuoyue的臺階覆蓋性與保形性：
3.極高的材料利用率：
4.出色的兼容性與靈活性：
5.減少缺陷：
三．應用領域：
由于其獨特的技術優勢，四噴頭超聲波勻膠機主要應用于對涂膠工藝要求極高的前沿科技領域：
1.先進半導體制造：
2.MEMS（微機電系統）
3.化合物半導體與功率器件：
4.光子器件與光學元件：
5.顯示技術：
6.科研與前沿探索：
四．技術參數：
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產品名稱 |
四噴頭超聲波勻膠機 |
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產品型號 |
CY-300SS-4 |
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勻膠機 |
圓晶尺寸 |
12英寸 |
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腔體材質 |
聚四氟 |
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加熱溫度 |
≤200℃（可以用一個小時） |
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溫控精度 |
+/- 0.1oC |
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加熱方式 |
紅外線加熱元件 |
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涂層持續時間 |
0-60 秒（可調） |
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涂層厚度 |
≤100nm（取決于您的加工工藝） |
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旋轉速度 |
30~6000rpm可調 |
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旋轉加速度 |
30~2000rpm/s可調 |
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轉速分辨率 |
1rpm |
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單次zui長勻膠時間 |
3000s |
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真空吸盤 |
一塊 2.5x2.5cm，一塊 10x10cm |
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控溫方式 |
AIP 智能溫控 |
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操作方式 |
7 英寸高清 LCD 觸摸屏 |
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控制面板 |
高清觸摸屏 PLC 控制面板可設置噴霧、脫水程序和溫控 |
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點膠機專用純機械吸盤 |
12 英寸一塊（需額外定制）；6 英寸一塊（需額外定制） |
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無油真空泵 |
型號：AP-2000V 功率：0.55kw zui低真空度：-700mmHg；-92Kpa zui大氣流量：200L/min；12M3/h 重量：10kg |
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外形尺寸 |
1200x1000x1050mm |
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超聲波系統 |
數量 |
4個 |
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霧化頭材質 |
鈦合金 |
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頻率 |
120kHz |
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功率 |
130W |
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流量 |
0.01-20ml/min |
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微粒直徑 |
20-25um |
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噴涂寬度 |
2-20mm |
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霧化頭類型 |
錐型 |
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注射泵 |
流量范圍 |
50mL/min |
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注射泵規格 |
10ml 精度+/- 0.01 mL |
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注射泵規格 |
100mL 精度+/- 0.01 mL |
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線速度范圍 |
5um/min-65um/min |
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線速度調節分辨率 |
5um/min |
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zui大行程 |
140mm |
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行程分辨率 |
0.156um |
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額定線性推力 |
＞90N |
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流量計 |
控制氣體種類 |
2種 |
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氣體流速 |
16-160mL/min |
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